Läutet eine zukunftssichere Ära der Kühlungsinnovation ein
Warum Vapor Chambers?
Modern Moderne CPUs erzeugen hochkonzentrierte Hotspots, die herkömmliche Kupferbasen nicht gleichmäßig verteilen können. Eine Vapor Chamber nutzt die Flüssigkeits-Phasenwechsel-Technologie, um Wärme schnell über ihre Oberfläche zu verteilen, sodass jede Heatpipe effizienter genutzt wird.
Die Wärme wird dann von der Coldplate über die Vapor Chamber zu den Heatpipes und Lamellenstapeln übertragen und sorgt für eine schnellere, gleichmäßigere Kühlung der heutigen Hochleistungsprozessoren von Intel und AMD.
Vapor Chamber vs. herkömmliche Kupferbasis
Herkömmliche Kupferbasis
Wärme in der Mitte konzentriert Höherer Wärmewiderstand Geringere Wärmeübertragungseffizienz Lokale Hotspots Langsamere transiente Kühlung
*Getestet auf demselben Kühlkörper mit unterschiedlichen Basisdesigns
Basistyp
Wärmewiderstand
Wärmeleitfähigkeit
Kupferbasis
0.238 °C/W
401W/(m·K)
Vapor-Chamber-Basis
0.225 °C/W
20000 W/(m·K)
VC 1.0 VC 2.0
VC 2.0 vergrößert die CPU-Kontaktfläche, erhöht die strukturelle Gesamtfestigkeit und verbessert die Oberflächenebenheit der VC. Eine verbesserte Kapillarstruktur steigert die Wärmeableitungseffizienz, während ein optimiertes Kupfersäulen-Layout die interne Struktur stärkt und die Wärmeübertragung verbessert. Im Vergleich zur ersten Generation bietet VC 2.0 eine bis zu 15 % bessere Kühlleistung.